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填空題

在硅表面LPCVD-Si₃N₄之前，都會先熱生長薄氧化層，它被稱為（）層。

答案：緩沖

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?鋁膜作為器件的內(nèi)電極，有抗電遷移性（）的特點(diǎn)。

答案：差

干法刻蝕的方式主要有：濺射刻蝕、等離子體刻蝕、（）刻蝕三種。

答案：反應(yīng)離子

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