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填空題

干法刻蝕的方式主要有：濺射刻蝕、等離子體刻蝕、（）刻蝕三種。

答案：反應(yīng)離子

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多組分多源蒸發(fā)的方法有：同時蒸發(fā)，（）蒸發(fā)兩種。

答案：順次

制備TiO₂等介質(zhì)薄膜可以采用（）濺射方法。

答案：射頻