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多項(xiàng)選擇題

?提高光刻分辨率的途徑有（）。

A.增大數(shù)值孔徑NA
B.增大曝光波長(zhǎng)
C.減小曝光波長(zhǎng)
D.減小數(shù)值孔徑NA

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多項(xiàng)選擇題

?光刻工藝流程中后烘的作用是（）。

A.消除駐波效應(yīng)
B.蒸發(fā)PR中所有有機(jī)溶劑
C.提高光刻膠和表面的黏附性
D.平滑光刻膠側(cè)壁

多項(xiàng)選擇題

光刻是集成電路制造最重要的工藝，是因?yàn)椋ǎ?/h4>

A.光刻耗費(fèi)時(shí)間最多
B.光刻耗費(fèi)時(shí)間最少
C.光刻決定了特征尺寸
D.光刻成本最高

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