无码高清视频|成人自拍视频|欧美成人午夜无码A片秀色直播|草美女视频网站|美女被操网站在线观看

<sup id="r5naw"><legend id="r5naw"></legend></sup>

<blockquote id="r5naw"><acronym id="r5naw"></acronym></blockquote>

<dd id="r5naw"></dd>

<pre id="r5naw"></pre>

判斷題

最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠是正性光刻膠。

答案：錯誤

你可能感興趣的試題

沒有CMP，就不可能生產(chǎn)甚大規(guī)模集成電路芯片。

答案：錯誤

旋涂膜層是一種傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)，在0.35μm及以上器件的制造中常普遍應(yīng)用于平坦化和填充縫隙。

答案：正確

<ins id="a22ek"></ins><pre id="a22ek"></pre>