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判斷題

CVD是利用某種物理過程，例如蒸發(fā)或者濺射現(xiàn)象實現(xiàn)物質(zhì)的轉(zhuǎn)移，即原子或分子由源轉(zhuǎn)移到襯底（硅）表面上，并淀積成薄膜。

答案：錯誤

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快速熱處理是一種小型的快速加熱系統(tǒng)，帶有輻射熱和冷卻源，通常一次處理一片硅片。

答案：正確

用于亞0.25μm工藝的選擇性氧化的主要技術(shù)是淺槽隔離。

答案：正確

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