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快速熱處理是一種小型的快速加熱系統(tǒng),帶有輻射熱和冷卻源,通常一次處理一片硅片。
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用于亞0.25μm工藝的選擇性氧化的主要技術(shù)是淺槽隔離。
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傳統(tǒng)的0.25μm工藝以上的器件隔離方法是硅的局部氧化。
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