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雜質在硅晶體中的擴散機制主要有兩種,分別是()擴散和()擴散。雜質只有在成為硅晶格結構的一部分,即(),才有助于形成半導體硅。
答案:
間隙式擴散機制;替代式擴散機制;激活雜質后
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擴散是物質的一個基本性質,分為三種形態(tài)()擴散、()擴散和()擴散。
答案:
氣相;液相;固相
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填空題
刻蝕剖面指的是(),有兩種基本的刻蝕剖面()刻蝕剖面和()刻蝕剖面。
答案:
被刻蝕圖形的側壁形狀;各向同性;各向異性
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