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單項選擇題

N型硅襯底的MOS結(jié)構(gòu),當(dāng)其柵極施加()偏壓時,半導(dǎo)體表面附近會形成一層()層。

A.正,電子積累
B.負(fù),電子積累
C.正,空穴反型層
D.正,電子反型層

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