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問答題

【計算題】已知SiF₄（g）、SiCl₄（g）的標準生成吉布斯函數(shù)（Δ_fGm^Θ）分別為–1506和–569.8（kJ·mol^–1），試用計算說明為什么HF（g）可以腐蝕SiO₂，而HCl（g）則不能？

答案：

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計算合成氨反應(yīng)N₂（g）+3H₂（g）=2NH₃（g）在673K時的標準平衡常數(shù)，并指出在673K，下列三種情況下反應(yīng)向何方向進行？
（1）p（NH₃）=304kPa，p（N₂）=171kPa，p（H₂）=2022kPa；
（2）p（NH₃）=600kPa，p（N₂）=625kPa，p（H₂）=1875kPa；
（3）p（NH₃）=100kPa，p（N₂）=725kPa，p（H₂）=2175kPa；

答案：

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