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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)單敘述一下pn結(jié)隔離的NPN晶體管的光刻步驟?
答案:
第一次光刻:N+隱埋層擴(kuò)散孔光刻
第二次光刻:P隔離擴(kuò)散孔光刻
第三次光刻:P型基區(qū)擴(kuò)散孔光刻
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【簡(jiǎn)答題】在制作晶體管的時(shí)候,襯底材料電阻率的選取對(duì)器件有何影響?
答案:
電阻率過(guò)大將增大集電極串聯(lián)電阻,擴(kuò)大飽和壓降,若過(guò)小耐壓低,結(jié)電容增大,且外延時(shí)下推大
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答案:
減小集電極串聯(lián)電阻,減小寄生PNP管的影響
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