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判斷題

氮化硅去除使用的是磷酸藥液。

答案：正確

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駐波效應破壞了光刻膠圖形側壁的垂直性，也導致光刻膠CD測量的不穩(wěn)定。

答案：正確

硅片邊緣勻膠后出現(xiàn)毛邊異常，是因為EBR藥液量不足。

答案：正確

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