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多項(xiàng)選擇題

根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。

A.接觸式曝光
B.接近式曝光
C.掃描式曝光
D.投影式曝光

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多項(xiàng)選擇題

刻蝕的過(guò)程中，對(duì)刻蝕的要求是（）

A.圖形的保真度高
B.選擇比越接近1：1越好
C.均勻性好
D.晶圓表面的潔凈

多項(xiàng)選擇題

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

A.均勻性好
B.圖形保真度高
C.選擇比低
D.潔凈度高