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【簡(jiǎn)答題】為什么刪氧要用熱生長(zhǎng)?
答案:
因?yàn)闁叛跖c其下的Si具有高質(zhì)量和穩(wěn)定性的特點(diǎn),柵氧一般通過熱生長(zhǎng)獲得。
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場(chǎng)氧化層:抑制金屬層的電荷堆積的厚氧化層
范圍:2500~12000 * 10^-10(A...
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在升溫環(huán)境里,通過外部供給高純氧氣使之與硅襯底反應(yīng),可以在硅片上得到一層熱生長(zhǎng)的氧化層;沉積的氧化層可以通過外部供給氧氣...
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