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填空題

上塔精餾段主要是（）分離，提餾段主要是氧、氬分離

答案：氧、氮、氬

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空分裝置常用的吸附劑：（）、（）、（）。

答案：硅膠、鋁膠、分子篩。

從主冷中（）排放或取出相當(dāng)于（）氧產(chǎn)量的液氧可以防止碳?xì)浠衔锏模ǎ?/h4>

答案：連續(xù)；1％；濃聚

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