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單項選擇題

刻蝕氮化硅薄膜時，可以用加熱的磷酸進行刻蝕，此時的溫度一般設(shè)置在（）

A.70～100℃
B.130～150℃
C.150～170℃
D.170～200℃

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單項選擇題

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

A.曝光
B.涂膠
C.去膠
D.顯影

多項選擇題

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

A.硫酸
B.氫氟酸
C.雙氧水
D.去離子水

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