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填空題

一般情況下溶劑再生貧液出裝置壓力控制為（）MPa。

答案： 0.6

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吸收與再生過程中，溶劑的濃度通過補(bǔ)充（）或軟化水或送酸性水去汽提調(diào)節(jié)控制。

答案：溶劑

相對地說溶劑低溫下（）吸收硫化氫，而在高溫下則容易解吸。

答案：容易

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