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問答題
【簡答題】熱氧化常見的缺陷有？
答案：
表面缺陷、結(jié)構(gòu)缺陷、氧化層中的電荷
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問答題
【簡答題】為何熱氧化時(shí)要控制鈉離子含量？降低鈉離子污染的措施有哪些？
答案：
因?yàn)檠趸瘜又腥绾懈邼舛鹊拟c，則線性和拋物型氧化速率常數(shù)明顯變大。措施有：加強(qiáng)工藝衛(wèi)生方可以避免Na+沾污；也可采用摻氯...
問答題
【簡答題】影響熱氧化層電性的電荷來源有哪些類型？降低這些電荷濃度的措施？
答案：
（1）可動(dòng)離子電荷（Qm）：加強(qiáng)工藝衛(wèi)生方可以避免Na+沾污；也可采用摻氯氧化，固定Na+離子；高純?cè)噭?br />（2...
