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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】光刻的曝光方式有幾種？各有何特點(diǎn)？

答案： 接觸和非接觸兩種，非接觸分為接近式和投影式
接觸式：精確度高，但掩膜易磨損，消耗大非接觸式
接近式：...
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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】負(fù)性和正性光刻膠有什么區(qū)別和特點(diǎn)？
答案： 特點(diǎn)：光刻膠都對(duì)大部分可見(jiàn)光靈敏，對(duì)黃光不靈敏。
區(qū)別：負(fù)性光刻膠使用時(shí)，未感光部分被適當(dāng)?shù)娜軇┛涛g，而感光部...
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【簡(jiǎn)答題】什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？
答案：

光刻就是通過(guò)一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓薄膜的特定部分去除的工藝。
流程有晶圓涂光刻膠、曝光、顯影、烘干。
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