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問答題

【簡答題】什么是整版接觸式曝光？

答案：

掩模尺寸和晶圓尺寸相同，并直接與光刻膠膠層接觸進行曝光。

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【簡答題】掩模制作方法有哪些？

答案：

圖案發(fā)生器方法、X射線制版、電子束掃描法

【簡答題】什么是掩模？掩模與集成電路制造有什么關系？制做掩模的數據從哪兒來？

答案：

掩膜是涂有特定圖案的鉻薄層（60~80nm）的均勻平坦的石英玻璃薄片、一層掩膜對應一塊IC的一層材料的加工、版圖。