- 搜標題
- 搜題干
- 搜選項
填空題
離子注入摻雜劑量偏差的原因主要來源于：（）、（）和可能的（）。 例如：當作28Si+注入時，可能有真空系統(tǒng)中剩余氣體產(chǎn)生的（）也會同時注入。
答案：
中性原子注入；二次電子效應；相同荷質(zhì)比離子的注入；N2+
你可能感興趣的試題
填空題
為了降低臺階高度對金屬互連線的影響，在沉積金屬層前必須對圓片平坦化。平坦化的方法主要有（）和（）。沉積的回流介質(zhì)主要有：（）
答案：
回流；化學機械拋光；硼硅玻璃（BSG）、磷硅玻璃（PSG）和硼磷硅玻璃（BPSG）
