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多項選擇題

紅外線分析儀測量氣室或晶片被污染后，使儀器靈敏度下降，測量誤差增大，在清洗氣室及窗口晶片時，要選擇相應的清洗劑，嚴禁破壞（）的光滑度。

A、切光片
B、氣室內壁
C、晶片
D、參比室

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單項選擇題

樣品氣中所含水分對紅外線分析儀的正確測量產生非常大的干擾，常量分析時可采用對樣品組分（）的干燥劑除水，在微量分析時或重要分析場合應采用冷卻器降溫除水。

A、吸附
B、不吸附
C、溶解
D、溫度降低

多項選擇題

發(fā)現(xiàn)紅外線分析儀指示大幅度擺動，一般是（）等原因引起的。

A、電氣系統(tǒng)接觸不良
B、切光馬達停轉
C、穩(wěn)壓電源輸出不穩(wěn)定
D、切光片松動

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