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當(dāng)紅外線分析儀采用濾波氣室時,濾波氣室內(nèi)封裝()氣體。
A、測量氣體
B、干擾組分
C、中性氣體
D、氮氣
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單項選擇題
當(dāng)干擾組分較多或進行微量分析時,紅外線分析儀一般采用()進行濾波。
A、參比氣室
B、干涉濾光片
C、濾波氣室
D、測量氣室
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單項選擇題
在干擾組分濃度高或與待測組分特征吸收波長交叉較多時,紅外線分析儀一般采用()進行濾波。
A、參比氣室
B、干涉濾光片
C、濾波氣室
D、測量氣室
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