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問答題

【簡答題】描述等離子體刻蝕和干法去膠的原理

答案：

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【簡答題】描述并比較接觸式光刻、接近式、投影式、步進(jìn)式和電子束光刻。

答案：

【簡答題】掩膜版的對準(zhǔn)法則，說明對準(zhǔn)誤差有哪些？

答案： ①把所需圖形在晶圓表面上定位或?qū)?zhǔn)
②通過曝光燈或其他輻射源將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠涂層上
對準(zhǔn)原則：