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單項選擇題

低變催化劑還原時，低變升溫，（）穩(wěn)定后，才開始配氫氣，以防超溫

A、時間
B、循環(huán)系統(tǒng)流速
C、溫度
D、脫水

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多項選擇題

溶液系統(tǒng)設備進行靜釩化，是指對（）的釩化處理

A、再生塔頂部
B、再生塔中部
C、再生塔底部
D、溶液再沸器

單項選擇題

低變催化劑還原初期氫濃度應為（）

A、0.1%～0.5%
B、1%
C、1.0%～5.0%
D、2%

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