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問答題

【簡(jiǎn)答題】半導(dǎo)體工藝中常用的三種CVD反應(yīng)器類型

答案： APCVD：常壓化學(xué)氣相淀積  
LPCVD: 低壓化學(xué)氣相淀積 &e...
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名詞解釋

過刻蝕
答案： 刻蝕薄膜時(shí)，晶圓內(nèi)的刻蝕速率和薄膜厚度并不完全均勻，主刻蝕后，會(huì)有少部分的薄膜留下，移除剩余薄膜的過程稱為過刻蝕。
名詞解釋

負(fù)載效應(yīng)
答案： 等離子體圖形化刻蝕過程中，刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓。
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