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JB/T4730.4-2005標準規(guī)定:缺陷磁痕的觀察應(yīng)在磁痕形成后立即進行。
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JB/T4730.4-2005標準規(guī)定:非熒光磁粉檢測時,被檢工件表面的可見光照度應(yīng)大于等于1000Lx。
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JB/T4730.4-2005標準規(guī)定:磁懸液的施加可采用噴、澆、浸、刷涂等方法。無論用哪種方法,均不應(yīng)使檢測面上磁懸液的流速過快。
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