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外延就是在單晶襯底上淀積一層薄的單晶層,即外延層。
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LPCVD反應(yīng)是受氣體質(zhì)量傳輸速度限制的。
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高阻襯底材料上生長(zhǎng)低阻外延層的工藝稱為正向外延。
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