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列出熱氧化物在硅片制造的4種用途()、()、場(chǎng)氧化層和()。
答案:
摻雜阻擋;表面鈍化;金屬層間介質(zhì)
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填空題
選擇性氧化常見(jiàn)的有()和(),其英語(yǔ)縮略語(yǔ)分別為L(zhǎng)OCOS和()。
答案:
局部氧化;淺槽隔離;STI
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填空題
用于熱工藝的立式爐的主要控制系統(tǒng)分為五部分()、()、氣體分配系統(tǒng)、尾氣系統(tǒng)和()。
答案:
工藝腔;硅片傳輸系統(tǒng);溫控系統(tǒng)
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