无码高清视频|成人自拍视频|欧美成人午夜无码A片秀色直播|草美女视频网站|美女被操网站在线观看

<ruby id="xbcgd"><xmp id="xbcgd"><blockquote id="xbcgd"></blockquote></xmp></ruby>

單項(xiàng)選擇題

在集成電路工藝中，光復(fù)制圖形和材料刻蝕相結(jié)合的工藝技術(shù)是（）。

A.刻蝕
B.氧化
C.淀積
D.光刻

你可能感興趣的試題

單項(xiàng)選擇題

在熱擴(kuò)散工藝中的預(yù)淀積步驟中，硼在950～1100℃的條件下，擴(kuò)散時(shí)間大約（）為宜。

A.4～6h
B.50min～2h
C.10～40min
D.5～10min

單項(xiàng)選擇題

在熱擴(kuò)散工藝中的預(yù)淀積步驟中，硼在900～1050℃的條件下，擴(kuò)散時(shí)間大約（）為宜。

A.4～6h
B.50min～2h
C.10～40min
D.5～10min