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問(wèn)答題

【論述題】什么是光刻中常見的表面反射和駐波效應(yīng)？如何解決？

答案：表面反射——穿過(guò)光刻膠的光會(huì)從晶圓片表面反射出來(lái)，從而改變投入光刻膠的光學(xué)能量。當(dāng)晶圓片表面有高...

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問(wèn)答題

【論述題】典型的光刻工藝主要有哪幾步？簡(jiǎn)述各步驟的作用。

答案：涂膠→前烘→對(duì)準(zhǔn)與曝光→曝光后烘烤→顯影→堅(jiān)膜→顯影檢查

問(wèn)答題

【論述題】個(gè)投影曝光系統(tǒng)采用ArF光源，數(shù)值孔徑為0.6，設(shè)k1=0.6，n=0.5，計(jì)算其理論分辨率和焦深。

答案：

分辨率：
焦深：

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