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問答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述SiO₂在集成電路中的用途。

答案： ①柵氧層：做MOS結(jié)構(gòu)的電介質(zhì)層（熱生長(zhǎng)）
②場(chǎng)氧層：限制帶電載流子的場(chǎng)區(qū)隔離（熱生長(zhǎng)或沉積）
③保...

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SiO₂-Si界面的雜質(zhì)分凝：（）過程中，（）在兩種材料中重新分布，（）吸引受主雜質(zhì)（B）、排斥施主雜質(zhì)（P、As）。

答案：高溫；雜質(zhì)；氧化硅

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述摻氯氧化工藝。

答案：在氧化工藝中，通常在氧化系統(tǒng)中通入少量的HCl氣體（濃度在3%以下）以改善SiO₂–S...