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連續(xù)固溶體可以是替位式固溶體,也可以是間隙式固溶體。
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填空題
設計與生產(chǎn)一種最簡單的硅雙極型PN結隔離結構的集成電路,需要()、()、()、()、()、()等六次光刻。
答案:
埋層光刻;隔離光刻;基區(qū)光刻;發(fā)射區(qū)光刻;引線區(qū)光刻;反刻鋁電極
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填空題
常規(guī)集成電路平面制造工藝主要由()、()、()、()、()等工藝手段組成。
答案:
光刻;氧化;擴散;刻蝕;離子注入(外延、CVD、PVD)
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