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晶體中的缺陷包括()、()、()、()等四種。
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點缺陷;線缺陷;面缺陷;體缺陷
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填空題
集成電路制作工藝大體上可以分成三類,包括()、()、()。
答案:
圖形轉(zhuǎn)化技術(shù);薄膜制備技術(shù);摻雜技術(shù)
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填空題
制作電阻分壓器共需要三次光刻,分別是()、()和()。
答案:
電阻薄膜層光刻;高層絕緣層光刻;互連金屬層光刻
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